Капризный химический элемент бор усилит прочность и износостойкость материалов
Над созданием перспективного метода сибирские учёные работали 20 лет. Уникальный электронно-ионно-плазменный метод формирования борсодержащих покрытий и слоёв материалов, созданный в Томском Институте сильноточной электроники СО РАН, найдёт широкое применение в таких отраслях, как аэрокосмическое двигателестроение и атомная энергетика. С его помощью можно добиться стабильно высоких характеристик прочности и износостойкости полученных образцов. А исходным материалом служит … Подробнее