Томские учёные создадут технологии для получения ценных компонентов из отходов вторсырья I и II классов опасности

Заведующий Инновационно-технологическим центром и лабораторией химических технологий ТГУ Виктор Сачков Фото: ТГУ

Учёные Томского госуниверситета в рамках федерального комплексного проекта «Инфраструктура для обращения с отходами I и II классов опасности» обещают разработать эффективные способы использования такого сырья для производства новых продуктов, в частности композиционных порошков.

Сообщая об этом, пресс-служба ТГУ уточняет, что задачей первого проекта является создание опытной установки и технологии получения из техногенных отходов композиционных порошков. Второй проект будет нацелен на разработку технологии выделения ценных элементов и их композиций из вторичных продуктов переработки отходов. В дальнейшем на их основе будет налажен выпуск линейки продукции с повышенной добавленной стоимостью.

Заведующий инновационно-технологическим центром и лабораторией химических технологий ТГУ Виктор Сачков пояснил, что в процессе электролизного производства, как правило, остаются, например, отходы с пониженным содержанием хрома и никеля. «Дальше они уже не могут использоваться как растворы для никелирования или хромирования, но никто никель и хром из них полностью не убирал. Если вернуть хром и никель в каком-то удовлетворительном виде, например, в виде солей или металла, их снова можно пустить в электролизное производство», – прокомментировал он суть ноу-хау.

Эти инновационные разработки будут использоваться на строящемся в городе Северске Томской области комплексе по утилизации отходов l и ll классов опасности. Проектная мощность по переработке отходов составит до 50 тысяч тонн в год.

Поделиться:

Добавьте нас в источники на Яндекс.Новостях

Если вы хотите, чтобы ЧС-ИНФО написал о вашей проблеме, сообщайте нам на SLOVO@SIBSLOVO.RU или через мессенджеры +7 913 464 7039 (Вотсапп и Телеграмм) и социальные сети: Вконтакте, Фэйсбук и Одноклассники

Новости партнеров:

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *