Сибирские ученые научились создавать сверхтонкие пленки для электроники будущего

Команда исследователей из Сибири и Дальнего Востока разработала метод формирования сверхтонких золотых пленок толщиной всего 5 нм при комнатной температуре. Этот способ не требует адгезионных слоев или криогенного охлаждения, что раньше было препятствием для промышленного использования прозрачных металлических электродов.

Разработка выполнена учеными из Института теплофизики СО РАН, Института физики полупроводников, Новосибирского государственного университета, Института автоматики ДВО РАН и Дальневосточного федерального университета. Технология основана на импульсном лазерном осаждении в разряженной атмосфере.

Новый метод позволяет пленке сохранять свои свойства на разных подложках, включая кремний и кварц. Она также обладает термической стабильностью, что открывает возможности для использования в многослойных и гибридных структурах современной электроники. Это касается гибких дисплеев, прозрачных солнечных панелей, нейроинтерфейсов и сенсорных систем.

Главное преимущество метода — его совместимость с существующими производственными процессами. Он прост в реализации, масштабируем и не требует редких или токсичных материалов. Пленки демонстрируют прозрачность 72 процента в видимом диапазоне и низкое электрическое сопротивление — всего 30 Ом/кв. Их добротность составляет 0,55 Ом^-1/10, что делает их идеальными для прозрачных электродов в OLED-дисплеях, фотонных чипах, метаматериалах и гибкой электронике.

В ближайших планах — создание опытных образцов устройств и расширение технологии на другие металлы и покрытия.